İxtiranın adı: Daxili qazların sərbəst mübadiləsinə imkan verən möhürlənmiş və nəmə davamlı paket və proses
İxtiraçılar: Şi Lei Çen Xiaorong;
Patent No:ZL 2021 1 1574998.2
Patent üçün müraciət tarixi: 22 dekabr 2021-ci il
Patent sahibi: Hangzhou Sunstone Technology Co., Ltd.
Ünvan: 2-ci mərtəbə, Bina 1, No. 460, Fucheng Road, Qiantang New District, Hangzhou, Zhejiang, 310018