שם ההמצאה: אריזה ותהליך אטום ועמיד בפני רטיבות המאפשר החלפה חופשית של גזים פנימיים
ממציאים: Shi Lei Chen Xiongquan;
מס' פטנט:ZL 2021 1 1574998.2
תאריך בקשת פטנט: 22 בדצמבר 2021
בעל פטנט: Hangzhou Sunstone Technology Co., Ltd.
כתובת: קומה 2, בניין 1, מס' 460, Fucheng Road, Qiantang New District, Hangzhou, Zhejiang, 310018